打破美国封锁，中国终于不再被卡脖，国产光刻机发展得咋样了？

图为芯片

为了打破美国封锁，国内多家企业纷纷选择增加在芯片领域的投资，并且已经产生了正面效应，看来中国终于能够不再被卡脖子了，很长一段时间，光刻机被认为是限制中国芯片技术发展的瓶颈，那么国产光刻机发展的咋样了呢？对此有专家表示：目前中国光刻机已经能够实现28纳米制造工艺，并且还在为14纳米做出努力。

图为芯片

如今世界上在光刻机领域处于世界一流水平的国家，只有荷兰一家，这个国家手中的ASML公司已经能够研制出5纳米工艺以上的光刻机，最高甚至能够达到2纳米，中国因为起步晚，并且长期遭遇国外的技术封锁，所以跟国外相比依然存在着一定的差距，想要从28纳米实现到5纳米的突破，那么绝对是一场攻坚战，短时间内想要完全突破难度非常大。

图为光刻机

那么为何光刻机的制造工艺这么重要呢？其实在芯片的制造领域，目前主要使用硅基材料，如果将芯片放大，可以发现，其内部布满密密麻麻的电路图，而这些电路图，正是依靠光刻机的激光雕刻，将其刻蚀在芯片上，光刻机的制造工艺越高，那么所能够刻蚀的芯片也就越复杂，这样所生产出来的芯片，在性能上自然也就越高，难怪西方国家会禁止高端光刻机出口到中国，毕竟一旦国内掌握了这项技术，那么很多国家靠芯片躺着赚钱的时代将彻底过去。

虽然光刻机在芯片生产领域起着重要作用，但它就是全部因素吗？显然不是，因为芯片行业也是一个非常复杂的行业，涉及到设计、制造、封装与测试多个环节，光刻机只是在其中一个环节中发挥作用，芯片的设计架构，包括材料也会影响到它的性能，此前这些技术或许被西方国家长期主导，但随着中国科的技不断进步，这种情况完全可能将发生彻底的逆转。

图为芯片

因为在中国增加芯片领域的投入，同时也在大力鼓动这一行业的技术创新，比如中科院就成功研发出石墨烯芯片，并且还出现了量子芯片，另外，在许多关键领域，中国的芯片已经能够做到自给自足，比如在航天领域，包括超算领域，中国都能够使用国产芯片，只是在5G技术领域，由于这项技术刚刚诞生，中国在这方面还不够成熟，所以才给了西方国家制裁的机会，相信用不了多久，随着中国技术的进步，这些情况也将获得极大的改变。

芯片技术的发展，归根结底还是人才的培养，因为只有足够多的行业人才，这样才能够推动国产芯片产业的全面进步，中国之所以能够取得今天的成就，靠的正是钱学森、邓稼先等一众科学家不断刻苦攻坚，所以中国现在也必须重视人才的培养，并且提升科技工作者的待遇，让国家对人才的吸引力提升。